| 发明名称 | 加热控制装置及物理气相沉积设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种加热控制装置及物理气相沉积设备。该装置包括转动部、驱动装置、固定部、加热件连接部和加热件；加热件连接部包括固定端和加热端，固定端与固定部连接，加热端与加热件连接；转动部在驱动装置的驱动下能够带动加热件在预设圆形范围内移动，且所述移动在所述预设圆形的径向方向上存在位移。其提高去气腔室中基片加热的均匀性，同时也可根据加工需要对基片某一位置进行集中加热，加热控制灵活。 | ||
| 申请公布号 | CN105200387A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201410286251.0 | 申请日期 | 2014.06.24 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 高正;陈春伟;佘清;赵可可;李新颖 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 李芙蓉 |
| 主权项 | 一种加热控制装置，其特征在于，包括转动部、驱动装置、固定部、加热件连接部和加热件；所述加热件连接部包括固定端和加热端，所述固定端与所述固定部连接，所述加热端与所述加热件连接；所述转动部在所述驱动装置的驱动下能够带动所述加热件在预设圆形范围内移动，且所述移动在所述预设圆形的径向方向上存在位移。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||