| 发明名称 | 一种遮光层的制作方法及阵列基板 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种遮光层的制作方法包括：提供一阵列基板；在所述阵列基板背面上涂敷感光光阻；将预先制作好的纳米压印模具贴合在所述阵列基板背面上，以使所述感光光阻填充到所述纳米压印模具上的空腔上；对涂敷有所述感光光阻的所述阵列基板背面进行曝光，将所述空腔中的所述感光光阻固化在所述阵列基板背面上；去除所述空腔外区域的所述感光光阻，以形成遮光层。本发明能有效降低遮光层的制作成本，并能改善因遮光层边坡导致电性不良的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN105206564A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201510528836.3 | 申请日期 | 2015.08.25 |
| 申请人 | 武汉华星光电技术有限公司 | 发明人 | 杜海波;申智渊 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人 | 黄威 |
| 主权项 | 一种遮光层的制作方法，其特征在于，所述遮光层的制作方法包括：提供一阵列基板；在所述阵列基板背面上涂敷感光光阻；将预先制作好的纳米压印模具贴合在所述阵列基板背面上，以使所述感光光阻填充到所述纳米压印模具上的空腔上；对涂敷有所述感光光阻的所述阵列基板背面进行曝光，将所述空腔中的所述感光光阻固化在所述阵列基板背面上；去除所述空腔外区域的所述感光光阻，以形成遮光层。 | ||
| 地址 | 430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 | ||