| 发明名称 | 降解地膜 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种降解地膜，旨在提供一种降解全面且降解速率高，环保的降解地膜，解决了地膜降解后不能有效的提高土壤质量，对植物的生长不能起到一个促进的作用的问题，其技术方案要点是全降解薄膜，所述全降解薄膜层的厚度为0.01-0.015mm，所述全降解薄膜上复合有菌肥层，所述菌肥层的厚度为0.008-0.01mm，所述菌肥层成条形间隔分布，所述条形的菌肥层的间隔距离为30-50cm，达到了降解后提高土壤肥力的效果，本实用新型适用于降解地膜技术领域。 | ||
| 申请公布号 | CN204907370U | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201520643082.1 | 申请日期 | 2015.08.24 |
| 申请人 | 杭州扬中科技有限公司 | 发明人 | 丰二中 |
| 分类号 | A01G13/02(2006.01)I | 主分类号 | A01G13/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种降解地膜，包括全降解薄膜，所述全降解薄膜层的厚度为0.01‑0.015mm，其特征在于：所述全降解薄膜上复合有菌肥层，所述菌肥层的厚度为0.008‑0.01mm，所述菌肥层成条形间隔分布，所述条形的菌肥层的间隔距离为30‑50cm。 | ||
| 地址 | 310000 浙江省杭州市滨江区江南大道4760号B-901室 | ||