发明名称 |
曝光装置、图像形成设备和曝光装置的制造方法 |
摘要 |
曝光装置、图像形成设备和曝光装置的制造方法。一种曝光装置,该曝光装置包括:基板,该基板在所述基板的正面上安装有发光元件;壳体,所述基板和光学元件固定到该壳体,以允许所述基板面向会聚从所述发光元件发出的光的所述光学元件;密封材料,该密封材料从所述基板的背面侧密封所述基板与所述壳体之间的嵌合部;以及导电部件,该导电部件安装在形成在所述基板的所述背面上的接地端子上并且从所述背面的高度大于所述密封材料在所述基板的部侧上的端部处的高度。 |
申请公布号 |
CN105204306A |
申请公布日期 |
2015.12.30 |
申请号 |
CN201410652711.7 |
申请日期 |
2014.11.17 |
申请人 |
富士施乐株式会社 |
发明人 |
冈崎祥也 |
分类号 |
G03G15/04(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
吕俊刚 |
主权项 |
一种曝光装置,该曝光装置包括:基板,在所述基板的正面上安装有发光元件;壳体,所述基板和光学元件固定到该壳体,以允许所述基板面向所述光学元件,所述光学元件会聚从所述发光元件发出的光;密封材料,该密封材料从所述基板的背面侧密封所述基板与所述壳体之间的嵌合部;以及导电部件,该导电部件安装在形成在所述基板的所述背面上的接地端子上,并且从所述背面的高度大于所述密封材料在所述基板的中央部侧上的端部处的高度。 |
地址 |
日本东京都 |