| 发明名称 | 栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置 | ||
| 摘要 | 本发明属于物理气相沉积领域,公开了一种栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置。该装置包括由电源Ⅰ供电的柱状阴极靶、由偏压电源供电的工件架，在柱状阴极靶前放置一个由电源Ⅱ供电的栅极。本发明将栅极与柱弧相结合，在提高薄膜结合力、光滑度的前提下保持了更高的薄膜沉积速率。 | ||
| 申请公布号 | CN105200378A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201510705327.3 | 申请日期 | 2015.10.27 |
| 申请人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明人 | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力;王健 |
| 分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人 | 方晓佳 |
| 主权项 | 栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置，包括由电源Ⅰ（1）供电的柱状阴极靶（3）、由偏压电源（5）供电的工件架（6），其特征在于在柱状阴极靶（3）前放置一个由电源Ⅱ（2）供电的栅极（4）。 | ||
| 地址 | 730000 甘肃省兰州市城关区天水中路18号 | ||