| 发明名称 | 金刚石膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及金刚石膜的制造方法。本发明提供一种金刚石膜的制造方法，其特征在于，至少具有在单晶基板上化学气相沉积金刚石膜的工序、以及由所述单晶基板分离该金刚石膜的工序，所述单晶基板使用Ir单晶或Rh单晶，所述单晶基板在取出金刚石膜后能够重复使用，其中，由所述单晶基板分离该金刚石膜的工序是，通过将层积基板从高温的加热状态冷却至低温，利用在单晶基板和金刚石膜的界面产生的应力而分离金刚石膜；或者，使用在界面注入离子后，加热层积基板，而利用离子注入层进行分离的离子注入剥离法。 | ||
| 申请公布号 | CN105177705A | 申请公布日期 | 2015.12.23 |
| 申请号 | CN201510627462.0 | 申请日期 | 2009.12.11 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 野口仁 |
| 分类号 | C30B25/10(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/04(2006.01)I | 主分类号 | C30B25/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 金鲜英;何杨 |
| 主权项 | 一种金刚石膜的制造方法，其特征在于，至少具有在单晶基板上化学气相沉积金刚石膜的工序、以及由所述单晶基板分离该金刚石膜的工序，所述单晶基板使用Ir单晶或Rh单晶，所述单晶基板在取出金刚石膜后能够重复使用，其中，由所述单晶基板分离该金刚石膜的工序是，通过将层积基板从高温的加热状态冷却至低温，利用在单晶基板和金刚石膜的界面产生的应力而分离金刚石膜；或者，使用在界面注入离子后，加热层积基板，而利用离子注入层进行分离的离子注入剥离法。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||