发明名称 一种用于自动研磨抛光机的研磨抛光装置
摘要 本发明的用于自动研磨抛光机的研磨抛光装置,包括修盘环和载样盘,所述修盘环为上下分离式结构,上修盘环的重量小于所述下修盘环的重量,修盘环表面设置有若干固定孔,固定孔在所述修盘环表面呈中心对称分布,或者其中一个固定孔设置于修盘环的中心,剩余的固定孔呈中心对称分布;下修盘环的底部设置有外径小于修盘环底部的凹槽,在修盘环底部的四周设置有若干排液槽,所述的载样盘与所述修盘环的固定孔保持间隙配合。本发明可同时研磨抛光多个小样品,既大大提高了效率,又避免了修盘环齿韧的磨损和样品侧歪而导致的抛光面不平,同时当研磨抛光硬度较大的样品时可以使用增重体用来提高研磨效率和质量。
申请公布号 CN105150091A 申请公布日期 2015.12.16
申请号 CN201510419293.1 申请日期 2015.07.16
申请人 河海大学 发明人 张建峰;李柏涛;李改叶;吴玉萍;杨笑言;张欣
分类号 B24B37/27(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;G01N1/32(2006.01)I 主分类号 B24B37/27(2012.01)I
代理机构 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人 黄天天
主权项 一种用于自动研磨抛光机的研磨抛光装置,包括修盘环和载样盘,其特征在于,所述的修盘环包括从上到下依次设置的上修盘环和下修盘环,所述的上修盘环和下修盘环固定连接,所述上修盘环和下修盘环表面对应设置有若干固定孔,所述的固定孔在所述修盘环表面呈中心对称分布,或者其中一个固定孔设置于修盘环的中心,剩余的固定孔呈中心对称分布;所述的上修盘环的重量小于所述下修盘环的重量,所述的下修盘环的底部设置有外径小于修盘环底部的凹槽,在修盘环底部的四周设置有若干排液槽;所述的载样盘与所述修盘环的固定孔保持间隙配合。
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