曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法

摘要

本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

主权项

1.一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于包括：保持基板并且可以移动的基板台，在其上具有第1区域；将图形像投影到基板上的投影光学系统，具有包含像面侧前端部分，且与第1区域相对，并在与第1区域的至少一部分之间保持液体的第2区域；以及控制装置，依照上述第1区域与上述第2区域的位置关系，限制上述基板台的移动。