发明名称 |
用于光刻衬底的温度控制方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于处理光刻衬底的方法,包括将光刻衬底放置在腔中的支撑构件上,其中,所述光刻衬底具有大约0摄氏度到大约50摄氏度的初始温度。将热传递流体引入到所述腔中以将所述光刻衬底冷却至低于大约0摄氏度到低于大约负40摄氏度的目标温度。在被冷却的光刻衬底的温度达到初始温度之前,对该被冷却的光刻衬底执行等离子体工艺。 |
申请公布号 |
CN101461031A |
申请公布日期 |
2009.06.17 |
申请号 |
CN200780020946.2 |
申请日期 |
2007.06.01 |
申请人 |
奥立孔美国公司 |
发明人 |
贾森·普卢姆霍夫;拉里·瑞安;约翰·诺兰;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I;G03F1/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
安 翔;林月俊 |
主权项 |
1. 一种用于处理光刻衬底的方法,包括:将所述光刻衬底放置在腔中的支撑构件上,所述光刻衬底具有初始温度;将热传递流体引入到所述腔中;通过所述热传递流体将所述光刻衬底冷却到目标温度;以及在所述被冷却的光刻衬底的温度达到所述初始温度之前,对所述被冷却的光刻衬底执行等离子体工艺。 |
地址 |
美国佛罗里达州 |