接近型曝光装置

摘要

接近型曝光装置。讨论了一种用于对准基板与掩模的装置和方法。在本发明的一个方面，所述装置包括：掩模台，其中该掩模台包括被构造成固定地支撑掩模的掩模固定台和支撑该掩模固定台的基台；以及布置在基台中的至少一个引导单元，其与掩模固定台耦合，并且被构造成移动掩模固定台，以沿预定方向移动掩模。

主权项

1、一种曝光装置，其包括：掩模台，其包括用于将掩模固定于其上的掩模固定台和支撑该掩模固定台的基台；至少一个负载支撑单元，其将掩模固定台的负载分散给基台，其中所述各负载支撑单元的一个边通过耦合件与所述掩模固定台相耦合，并且各负载支撑单元的另一个边与所述基台相连接；布置在各负载支撑单元与基台之间的滑动件，以使得所述掩模固定台能轻微地从基台移动；至少一个引导单元，其被构造成移动掩模固定台；至少一个支撑器，其支撑掩模台；以及至少一个驱动板，其被构造成移动其上将被转印掩模的图案的基板。