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发明名称 Methode und Apparat für Immersionslithographie
摘要
申请公布号 DE602005011204(D1) 申请公布日期 2009.01.08
申请号 DE200560011204T 申请日期 2005.06.30
申请人 INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM (IMEC) 发明人 MERTENS, PAUL;FYEN, WIM
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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