发明名称 |
一种图案化方法 |
摘要 |
一种图案化方法,包括对物体的一个或多个区域施加压力和解除压力,使所述物体的一个或多个区域发生相转变,所述转变的一个或多个区域具有代表预定图案的对应预定形状。可以采用所述图案化方法在物体中形成纳米级图案,而不需要使用光刻胶或者传统的光学或电子束平版印刷方法,由此避免了这些技术的限制。例如,具有非晶形或晶体硅的表面层的半导体晶片可以使用冲模或纳米级压头进行图案化,然后可用作电子器件、光学器件或机械器件中的元件。 |
申请公布号 |
CN101222974A |
申请公布日期 |
2008.07.16 |
申请号 |
CN200680025674.0 |
申请日期 |
2006.06.07 |
申请人 |
日欧塔控股有限公司 |
发明人 |
I·A·麦斯威尔;J·S·威廉姆斯;J·E·布拉德比 |
分类号 |
B01J3/06(2006.01);H01L21/322(2006.01) |
主分类号 |
B01J3/06(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
项丹 |
主权项 |
1.一种图案化方法,所述方法包括:对物体的一个或多个区域施加压力和解除压力,使所述物体的一个或多个区域发生相转变,所述转变的一个或多个区域具有表示预定的图案的对应的预定的形状。 |
地址 |
澳大利亚新南威尔士 |