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Obere Erweiterungselektrode für eine Plasmaschrägkantenätzvorrichtung, die bei einer Halbleitersubstratverarbeitung verwendet wird, wobei das Plasma eine Nebenproduktablagerung von einer Schrägkante eines Halbleitersubstrats entfernt, wobei die Erweiterungselektrode umfasst: einen ringförmigen Körper mit einer äußeren Peripherie, einer inneren Peripherie, eine Montageoberfläche und eine zum Plasma hin freiliegende kegelstumpfartige Oberfläche, die sich von der äußeren Peripherie zur inneren Peripherie erstreckt, wobei sich die Erweiterungselektrode betreiben lässt, um während eines Reinigens der Schrägkante des Halbleitersubstrats in der Schrägkantenätzvorrichtung ein Plasma zu erzeugen.
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