光学临近效应修正的建模方法及测试图形的形成方法

摘要

本发明涉及一种光学临近效应测试图形的形成方法，包括：将每一层次原始的测试图形进行放大后得到放大图形；将所述原始的测试图形和放大后的图形光刻到掩膜版上，分别形成原始图形区域和放大图形区域；将所述掩膜版上的原始图形区域和放大图形区域光刻到晶圆上。本发明还涉及一种采用上述方法形成的测试图形的基于模型的光学临近效应修正的建模方法。本发明真实地模拟出在实际工艺中栅氧化层覆盖在有源区层上的情况，如实地反映栅氧化层与有源区层之间重叠光刻的光学临近效应，在晶圆上光刻得到的图形质量非常好，因此能进行高质量的光学临近效应修正。

主权项

一种光学临近效应测试图形的形成方法，包括如下步骤：S10，将每一层次原始的测试图形进行放大后得到放大图形；S20，将所述原始的测试图形和放大图形光刻到掩膜版上，分别形成原始图形区域和放大图形区域；S30，将所述掩膜版上的原始图形区域和放大图形区域光刻到晶圆上。