PHOTOMASK AND FOAMING MASK PATTERN USING THE SAME,申请号KR20020075365-传众专利搜索

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发明名称	PHOTOMASK AND FOAMING MASK PATTERN USING THE SAME
摘要
申请公布号	KR100526527(B1)	申请公布日期	2005.11.08
申请号	KR20020075365	申请日期	2002.11.29
申请人		发明人
分类号	G03F1/48;G03F1/76;G03F7/00;(IPC1-7):G03F1/08	主分类号	G03F1/48
代理机构		代理人
主权项
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