发明名称 |
动态随机存取记忆体及其制作方法 |
摘要 |
一种动态随机存取记忆体,其包括半导体基底、电容器以及电晶体。半导体基底上配置有多个柱状结构。各柱状结构由半导体基底起由下而上包括绝缘层、半导体层与半导体突出部。电容器包括下电极、上电极与电容介电层。下电极配置于柱状结构之间的间隙,且连接半导体基底。上电极配置于半导体层中。电容介电层则配置于下电极与上电极之间。电晶体包括闸极、第一掺杂区与第二掺杂区。闸极配置于半导体突出部侧壁。第一掺杂区配置于闸极下方之半导体突出部中,且耦接上电极。第二掺杂区配置于闸极上方之半导体突出部中。 |
申请公布号 |
TWI362721 |
申请公布日期 |
2012.04.21 |
申请号 |
TW096122308 |
申请日期 |
2007.06.21 |
申请人 |
南亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |
发明人 |
陈国忠;黄仁瑞;李宏文 |
分类号 |
H01L21/8242 |
主分类号 |
H01L21/8242 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
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地址 |
桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |