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经营范围
发明名称
制造固态成像器件之方法及固态成像器件
摘要
本发明揭示一种制造一固态成像器件的方法,其包含以下步骤:于一半导体基板之一光接收区域中形成一光接收部分;于该半导体基板之一垫区域中形成一垫部分;于该光接收部分及该垫部分上方形成一微透镜材料层;为该微透镜材料层提供对应于该光接收部分的一微透镜;于该微透镜材料层上形成一低反射材料层;蚀刻该垫部分上方之该微透镜材料层及该低反射材料层以形成一开口;及藉由一常温氧自由基处理而对该低反射材料层之一表面及该开口之一内侧部分赋予亲水性。
申请公布号
TWI414063
申请公布日期
2013.11.01
申请号
TW099115851
申请日期
2010.05.18
申请人
新力股份有限公司 日本
发明人
东宫祥哲;堀伊奈;堂福忠幸;上家瞳;山本笃志;名取太知
分类号
H01L27/148
主分类号
H01L27/148
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
日本
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