发明名称 从模板上长成的III族氮化物发光装置以减低应变
摘要 在III族氮化物发光装置中,包括发光层之装置层10系生长于设计成用以减低装置中之应变的模板之上,尤其系在发光层中。减低该发光装置中之应变可改良该装置的效能。该模板可使该发光层中之晶格常数扩展超过适用于用成长模板之晶格常数范围。应变系定义如下:一给定层具有对应于一组合物与该层相同的一独立材料之一晶格常数的一块体晶格常数abulk与对应于如生长于该结构中之该层之一晶格常数的一平面内晶格常数ain-plane。一层中的应变量系|(ain-plane-abulk)|/abulk。在一些具体实施例中,该发光层中的应变系少于1%。
申请公布号 TWI427819 申请公布日期 2014.02.21
申请号 TW096149064 申请日期 2007.12.20
申请人 飞利浦露明光学公司 美国 发明人 派克N 葛理洛特;纳坦F 贾诺;华纳K 勾兹;琳达T 罗曼诺
分类号 H01L33/00;H01L21/20 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国