光学装置、扫描方法、微影装置及元件制造方法

摘要

一种装置(AS)，其量测一微影基板(W)上之标记(202)之位置。一量测光学系统包含用于用一辐射光点(206)来照明该标记之照明子系统(504)，及用于侦测藉由该标记绕射之辐射之一侦测子系统(580)。一倾斜镜面(562)与该标记自身之一扫描运动同步地相对于该量测光学系统之参考框架(RF)来移动该辐射光点，以允许获取针对准确位置量测之更多时间。镜面倾斜轴线(568)系沿着镜面平面与接物镜(524)之一光瞳平面(P)之交叉点而配置以最小化该扫描之假影。相同几何配置可用于在其他类型之装置(例如，一共焦显微镜(150))中之扫描。

主权项

一种光学装置，其包含用于在该装置之一光学系统与一物件之间透射辐射射线的一接物镜(objective lens)，该光学装置进一步包含至少一可移动器件，该至少一可移动器件包含配置于该光学系统与该接物镜之间以倾斜且因此随着该等射线传递通过该接物镜而改变该等射线之方向的一镜面，其中该镜面受到约束以围绕大致沿着该接物镜之一光瞳平面与该镜面之一平面之间的交叉点之一轴线而倾斜。