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经营范围
发明名称
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
摘要
申请公布号
JP5813574(B2)
申请公布日期
2015.11.17
申请号
JP20120111617
申请日期
2012.05.15
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065;H05H1/46
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
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