发明名称 一种金属掩膜冷却装置及金属掩膜蒸镀装置
摘要 本发明涉及有源矩阵显示领域,尤其涉及一种金属掩膜冷却装置及金属掩膜蒸镀装置,该金属掩膜冷却装置包括制冷器、功率控制单元、供电单元及磁板;制冷器贴合在基板的一侧面,在其上磁板的作用下,制冷器与金属掩膜吸附在基板的两侧面,通过功率控制单元控制制冷器工作,制冷器进而对金属掩膜进行冷却,其中制冷器及功率控制单元由供电单元供电;由于利用热电原理通过制冷器贴合在基板上对金属掩膜进行冷却,掩膜各处降温均匀,不会出现结构位置的变形,通过功率控制单元控制制冷器工作,温度控制及时,温度惯性小,温控效率高,且采用制冷器,安装维修方便,使用寿命长。
申请公布号 CN105132860A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510612416.3 申请日期 2015.09.23
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 江元铭
分类号 C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 李相雨
主权项 一种金属掩膜冷却装置,其特征在于:其包括制冷器、功率控制单元、供电单元及磁板;制冷器贴合在基板的一侧面,且通过基板对贴合在基板另一侧面的金属掩膜进行冷却;磁板设置在制冷器上,以将制冷器与金属掩膜吸附在基板的两侧面;功率控制单元与制冷器连接,以控制制冷器的制冷温度;供电单元与制冷器及功率控制单元连接,以给制冷器及功率控制单元提供电源。
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