承载装置、湿法刻蚀设备及其使用方法

摘要

本发明公开了一种承载装置、湿法刻蚀设备及其使用方法，其中，该承载装置包括：设置于所述待处理基板下方的承载主体和加热单元，承载主体用于承载所述待处理基板，且使得所述待处理基板呈倾斜放置，加热单元用于对所述待处理基板进行加热，以使得所述待处理基板上由顶部至底部所对应的温度逐渐升高。本发明的技术方案通过在待处理基板下方设置加热单元，以使得待处理基板上由顶部至底部所对应的温度逐渐升高，从而可提高位于待处理基板底部的刻蚀液的刻蚀速率，解决了位于待处理基板底部的刻蚀液因流动交换效率较低而造成刻蚀速率偏低的问题，进而提升了倾斜式湿法刻蚀过程中刻蚀速率的均一性。

主权项

一种承载装置，其特征在于，用于在湿法刻蚀过程中承载待处理基板，所述承载装置包括：承载主体，设置于所述待处理基板的下方，用于承载所述待处理基板，且使得所述待处理基板呈倾斜放置；加热单元，设置于所述待处理基板的下方，用于对所述待处理基板进行加热，以使得所述待处理基板上沿倾斜方向由顶部至底部所对应的温度逐渐升高。