一种陷光滤波器及其制备方法

摘要

本发明公开了一种陷光滤波器件及其制备方法。该膜系自基底向上依次包括镀制在任意基底上的挡光层金属或类金属膜、吸收薄膜以及窄带滤光膜。本发明的陷光滤波器可以通过波导结构多次吸收使对特定波长的吸收率接近100％(剩余不足10^-5)，而对于其他波长光的损失小于1％。本发明的陷光波长可以按需求通过窄带滤光膜的设计来灵活选择，膜系可直接通过工业化磁控溅射和光学薄膜制备方法在大面积基底上制备，易于实现低成本、大规模工业化生产。

主权项

一种陷光滤波器结构，其结构为：在基底(1)上自下而上依次为挡光层(2)、吸收层(3)、窄带滤光膜(4)，其特征在于：所述的基底(1)是下列材料之一的衬底，硅片、砷化镓半导体材料、光学玻璃、石英、宝石、高强度工程塑料、如聚碳酸酯树脂、PBT加玻纤、尼龙加玻纤、PPS加玻纤、PPO加玻纤、玻璃增强塑料、聚碳酸酯、PMMA、PI柔性衬底；所述的挡光层(2)为金属膜或类金属膜，厚度为100nm以上；所述的吸收层(3)是对可见和红外光高吸收的氧化物、氮化物或氮氧化物薄膜层，其厚度为20nm～2000nm；其上还有一减反膜层，减反膜以TiO2层和MgF2层作为减反膜，TiO2层的厚度范围为0～500nm，MgF2层的厚度范围为0～500nm；所述的窄带滤光膜(4)的结构为：(LH)^m+2L+(HL)^m，其中膜堆周期数m>＝3，高折射材料H采用TiO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅或Si₃N₄，低折射材料L采用SiO₂、MgF₂。