一种计算机硬盘的化学机械抛光液

摘要

本发明涉及计算机领域，具体涉及一种可有效应用于计算机NiP硬盘的计算机硬盘化学机械抛光液。计算机硬盘化学机械抛光液，为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液；所述盐类添加剂通式为X-R-Y，其中X为阳离子，Y为阴离子，R为直链烃基或其衍生物。通过本发明提供的化学机械抛光浆液，硬盘的抛光速率达到了90nm/min,表面粗糙度较低，硬盘的表面质量和加工效率得到了有效的提高。

主权项

一种计算机硬盘化学机械抛光液，为由氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂组成的水溶液；所述氧化剂选自铁氰化钾、双氧水、过硫酸铵、过硫酸钾或过硫酸钠；所述研磨粒子为氧化硅粒子；所述盐类添加剂通式为X‑R‑Y，其中X为阳离子，Y为阴离子，R为直链烃基或其衍生物；X选自Ca²⁺、Mg²⁺、Zn²⁺、K⁺、Na⁺、Li⁺、‑NH₂⁺或Al³⁺，Y选自PO₄^3‑、NO₃^‑、Cl^‑、Br^‑、I^‑、COOH^‑或SO₄^2‑，R为‑[CH₂]_n‑、‑[CH₂]_n‑的衍生物、‑[CH＝CH]_n‑或‑[CH＝CH]_n‑的衍生物；所述抛光液中，氧化剂的浓度为0.1～20wt％，研磨粒子的浓度为0.2～30wt％，盐类添加剂的浓度为0.5～1.5wt％，所述抛光液的pH值为1～9。