形成二氧化矽基层的组成物及制造二氧化矽基层的方法;COMPOSITION FOR FORMING SILICA BASED LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICA BASED LAYER,申请号TW103146423-传众专利搜索

发明名称	形成二氧化矽基层的组成物及制造二氧化矽基层的方法;COMPOSITION FOR FORMING SILICA BASED LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICA BASED LAYER
摘要	一种形成二氧化矽基层的组成物，包含：选自氢化聚矽氮烷、氢化聚环氧矽氮烷或它们的组合的二氧化矽基化合物；以及溶剂，其中，具有0.2μm到1μm粒子直径的粒子的数目少于或等于10/Ml。
申请公布号	TW201544561	申请公布日期	2015.12.01
申请号	TW103146423	申请日期	2014.12.31
申请人	三星ＳＤＩ股份有限公司 SAMSUNG SDI CO., LTD.	发明人	裵鎭希 BAE, JIN-HEE;郭泽秀 KWAK, TAEK-SOO;李汉松 LEE, HAN-SONG;赵娟振 CHO, YOUN-JIN;黄丙奎 HWANG, BYEONG-GYU;金补宣 KIM, BO-SUN;朴玺美 PARK, SAE-MI;朴银秀 PARK, EUN-SU;徐珍雨 SEO, JIN-WOO;任浣熙 LIM, WAN-HEE;张俊英 JANG, JUN-YOUNG;韩权愚 HAN, KWEN-WOO
分类号	C09D183/00(2006.01);C08G77/62(2006.01);C08G77/26(2006.01);C23C18/12(2006.01);H01L21/312(2006.01);H01L21/316(2006.01);H01L21/3105(2006.01);H01L21/762(2006.01);H01L21/8242(2006.01);H01L27/108(2006.01)	主分类号	C09D183/00(2006.01)
代理机构		代理人	叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址	南韩 KR