发明名称 聚合膜之耐药品性改善方法、聚合膜之成膜方法、成膜装置、及电子制品之制造方法;METHOD FOR IMPROVING CHEMICAL RESISTANCE OF POLYMERIZED FILM, POLYMERIZED FILM FORMING METHOD, FILM FORMING APPARATUS, AND ELECTRONIC PRODUCT MANUFACTURING METHOD
摘要 本发明之目的在于提供一种聚合膜之耐药品性改善方法,其系改善形成于被处理体的表面上、以药品进行处理之聚合膜的耐药品性的聚合膜之耐药品性改善方法,其特征为:在未将该被处理体从已使该聚合膜成膜之成膜装置的处理室移出的情况下,接续该聚合膜的成膜处理,在该处理室内进行改善该聚合膜之耐药品性的处理。
申请公布号 TW201544534 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW104105956 申请日期 2015.02.25
申请人 东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 杉田吉平 SUGITA, KIPPEI;山口达也 YAMAGUCHI, TATSUYA;森贞佳纪 MORISADA, YOSHINORI;藤川诚 FUJIKAWA, MAKOTO
分类号 C08J5/18(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/3105(2006.01);H05K3/28(2006.01) 主分类号 C08J5/18(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋周良吉
主权项
地址 日本 JP