| 发明名称 |
オフセットした同心の溝のパターンを有する研磨パッドおよびそれを用いて基材を研磨するための方法 |
| 摘要 |
本発明は、研磨パッド、および基材を化学的機械的に研磨するための研磨パッドの使用方法を提供する。研磨パッドは、少なくとも同心度の第１中心を有する第１の複数の同心の溝、および同心度の第２中心を有する第２の複数の同心の溝からなる複数の溝を含む。この同心度の第１中心は、同心度の第２中心と一致しておらず、研磨パッドの回転軸は、同心度の第１中心および同心度の第２中心の少なくとも１つと一致しておらず、複数の溝は、連続のらせん溝からならず、そして研磨表面は、モザイクの溝パターンを含まない。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2015533668(A) |
申请公布日期 |
2015.11.26 |
| 申请号 |
JP20150541855 |
申请日期 |
2013.11.05 |
| 申请人 |
キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション |
发明人 |
チン−ミーン ツァイ;シー−ウエイ チュヨン;クン−シュウ ヤーン;ジア−チュヨン スー;シュヨン−ホワン リウ;フオン−チー スー;クレイグ コクジョン |
| 分类号 |
B24B37/26;B24B37/24;H01L21/304 |
主分类号 |
B24B37/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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