发明名称 半导体装置
摘要 本发明涉及一种半导体装置,其具有沟槽结势垒肖特基二极管(TJBS),所述沟槽结势垒肖特基二极管具有作为筘位元件的集成PN二极管,所述半导体装置尤其适于作为用在机动车发电机系统中的具有约20V的击穿电压的Z二极管。在此,TJBS由肖特基二极管和PN二极管的组合构成。对于击穿电压,PN二极管的击穿电压(BV_pn)低于肖特基二极管的击穿电压(BV_schottky)。因此,在击穿中,半导体装置可以以高电流运行。
申请公布号 CN102473738B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201080034430.5 申请日期 2010.06.09
申请人 罗伯特·博世有限公司 发明人 渠宁;A·格拉赫
分类号 H01L29/872(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/872(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 曾立
主权项 半导体装置,其具有沟槽结势垒肖特基二极管(TJBS),所述沟槽结势垒肖特基二极管具有作为箝位元件的集成PN二极管,其中,所述沟槽结势垒肖特基二极管(TJBS)由肖特基二极管和PN二极管的组合构成,其中,所述PN二极管的击穿电压(BV_pn)低于所述肖特基二极管的击穿电压(BV_schottky),其中,所述半导体装置具有位于n<sup>+</sup>衬底(1)上并且用作负极区的n外延层(2),并且在二维视图中存在至少两个蚀刻到所述n外延层(2)中的沟道(6),并且这些沟道(6)以p掺杂的硅或多晶硅填充并且形成PN二极管的正极区,其特征在于,这些沟道(6)从上向下分成由上部区域、中间区域和下部区域组成的三个区域并且以不同掺杂浓度的p掺杂的硅或多晶硅填充,其中,所述上部区域以强掺杂的p<sup>+</sup>硅或p<sup>+</sup>多晶硅(6)填充,所述中间区域以弱掺杂的p硅或p多晶硅(6)填充并且所述下部区域以强掺杂的p<sup>+</sup>硅或p<sup>+</sup>多晶硅(6)填充,其中,所述上部区域、所述中间区域和所述下部区域如此设计,使得所述PN二极管的击穿发生在所述下部区域与所述n外延层(2)之间的PN结处。
地址 德国斯图加特