发明名称 ЛИТИЕВО-СИЛИКАТНЫЕ СТЕКЛОКЕРАМИКА И СТЕКЛО С ОКСИДОМ ЧЕТЫРЕХВАЛЕНТНОГО МЕТАЛЛА
摘要 1. Литиево-силикатная стеклокерамика, включающаяоксид четырехвалентного металла, выбранный из ZrO, TiO, CeO, GeO, SnOи смесей таковых,по меньшей мере, 12,1 мас.% LiO,менее 0,1 мас.% LaO,менее 1,0 мас.% КО именее 2,0 мас.% NaO.2. Стеклокерамика по п. 1, за исключением литиево-силикатной стеклокерамики, которая включает, по меньшей мере, 6,1 мас.% ZrO.3. Стеклокерамика по п. 1 или 2, за исключением стеклокерамики, которая включает, по меньшей мере, 8,5 мас.% оксида переходного металла, выбранного из группы, состоящей из оксидов иттрия, оксидов переходных металлов, имеющих атомный номер 41-79 и смесей этих оксидов.4. Стеклокерамика по п. 1 или 2, которая включает менее 0,5 в частности, менее 0,1 мас.% КО, и, предпочтительно, являющаяся, по существу, свободной от КО.5. Стеклокерамика по п. 1 или 2, которая включает менее 1,0, в частности, менее 0,5, предпочтительно, менее 0,1 мас.% NaO, и являющаяся, по существу, свободной от NaO.6. Стеклокерамика по п. 1 или 2, которая является, по существу, свободной от LaO.7. Стеклокерамика по п. 1 или 2, которая включает оксид четырехвалентного металла или смеси таковых в количестве 0,1-15, в частности, 2,0-15,0 и, предпочтительно, 2,0-8,0 мас.%.8. Стеклокерамика по п. 1 или 2, которая содержит метасиликат лития в качестве основной кристаллической фазы и, в частности, содержит более 5 об.%, предпочтительно, более 10 об.% и, особенно предпочтительно, более 15 об.% кристаллов метасиликата лития.9. Стеклокерамика по п. 1 или 2, которая содержит дисиликат лития в качестве основной кристаллической фазы и, в частности, содержит более 10 об.%, предпочтительно, более 20 об.% и, особенно предпочтительно, более 30 об.% кристаллов дисиликата лития.10. Стеклокерамика по п. 1 или 2, которая включает 55,
申请公布号 RU2014119249(A) 申请公布日期 2015.11.20
申请号 RU20140119249 申请日期 2012.10.11
申请人 ИВОКЛАР ВИВАДЕНТ АГ 发明人 РИТЦБЕРГЕР Кристиан;АПЕЛЬ Эльке;ХЕЛАНД Вольфрам;РАЙНБЕРГЕР Фолькер
分类号 A61K6/02 主分类号 A61K6/02
代理机构 代理人
主权项
地址