发明名称 | 圆筒型溅射靶及其制造方法 | ||
摘要 | 该圆筒型溅射靶为Cu-Ga合金圆筒型溅射靶,其由含有15~35原子%的Ga的Cu合金所构成,所述Cu合金具有粒状结晶组织。 | ||
申请公布号 | CN105074047A | 申请公布日期 | 2015.11.18 |
申请号 | CN201480018190.8 | 申请日期 | 2014.03.27 |
申请人 | 三菱综合材料株式会社 | 发明人 | 加藤慎司;张守斌;小见山昌三 |
分类号 | C23C14/34(2006.01)I;B22D13/02(2006.01)I;C22C9/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 康泉;王珍仙 |
主权项 | 一种圆筒型溅射靶,其通过铸造而形成,其特征在于,该溅射靶为含有15~35原子%的Ga的Cu合金,所述Cu合金中晶粒的长轴与短轴之比的平均值为2.0以下。 | ||
地址 | 日本东京 |