发明名称 圆筒型溅射靶及其制造方法
摘要 该圆筒型溅射靶为Cu-Ga合金圆筒型溅射靶,其由含有15~35原子%的Ga的Cu合金所构成,所述Cu合金具有粒状结晶组织。
申请公布号 CN105074047A 申请公布日期 2015.11.18
申请号 CN201480018190.8 申请日期 2014.03.27
申请人 三菱综合材料株式会社 发明人 加藤慎司;张守斌;小见山昌三
分类号 C23C14/34(2006.01)I;B22D13/02(2006.01)I;C22C9/00(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 康泉;王珍仙
主权项 一种圆筒型溅射靶,其通过铸造而形成,其特征在于,该溅射靶为含有15~35原子%的Ga的Cu合金,所述Cu合金中晶粒的长轴与短轴之比的平均值为2.0以下。
地址 日本东京