发明名称 |
以硫化氢反应性退火降低奈米粒子-衍生薄膜中之碳;HS REACTIVE ANNEAL TO REDUCE CARBON IN NANOPARTICLE-DERIVED THIN FILMS |
摘要 |
本发明系关于一种使用CIGS奈米粒子在基板上制造CIGS吸收剂层之方法,该方法包括一或多个退火步骤,该等退火步骤涉及加热该(等)CIGS奈米粒子薄膜以乾燥该薄膜及可能使该等CIGS奈米粒子熔合在一起以形成CIGS晶体。通常,至少该最终退火步骤将诱导粒子熔合以形成CIGS晶体。已发现反应性气体退火有助于在所得CIGS吸收剂层中生长较大颗粒并改善彼等层之光伏打性能。怀疑CIGS奈米粒子薄膜中存在碳会阻碍可在退火时在CIGS薄膜中获得之晶体之颗粒生长及限制其大小。已发现将该等CIGS奈米粒子薄膜曝露于含有硫之反应性氛围下可降低薄膜中之碳量,从而导致退火时生长较大CIGS晶体。 |
申请公布号 |
TW201543694 |
申请公布日期 |
2015.11.16 |
申请号 |
TW104103328 |
申请日期 |
2015.01.30 |
申请人 |
纳诺柯技术有限公司 NANOCO TECHNOLOGIES LIMITED |
发明人 |
克尔克汉姆 保罗 KIRKHAM, PAUL;艾伦 凯瑞 ALLEN, CARY;怀特雷格 史蒂芬 WHITELEGG, STEPHEN |
分类号 |
H01L31/02(2006.01);H01L31/032(2006.01);H01L31/18(2006.01) |
主分类号 |
H01L31/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
英国 GB |