发明名称 一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
摘要 本发明公开了一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置。本发明中的机壳是一个包含多个观察窗口的长方体,机壳的正侧面可整体向上开启,观察盖设于其正侧面;内框结构位于整体机壳内;内框结构中的内框支撑座位于整个内框结构的底部,内框支架的四面布置了网状钢架,网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管,内框前盖与观察盖的位置对应;滑动模块中的导轨座上架设有滑轨,移动滑块与滑轨配合,移动滑块在滑轨上移动时,带动滑动涡流管支架移动,仪器放置架位于移动滑块的路径上,用于放置待清洗的仪器设备。本发明不仅可以快速、高效地对深海仪器、设备等进行清洗,也能满足仪器清洁度的要求,并且不会造成二次污染。
申请公布号 CN105032810A 申请公布日期 2015.11.11
申请号 CN201510318594.5 申请日期 2015.06.11
申请人 杭州电子科技大学 发明人 田晓庆;潘华辰;吴文吉;杨怡君;李国民
分类号 B08B3/02(2006.01)I 主分类号 B08B3/02(2006.01)I
代理机构 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人 王佳健
主权项 一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置,包括整体机壳、观察盖、内框结构、水泵部分和操作界面,其特征在于:其中机壳是一个包含多个观察窗口的长方体,机壳的正侧面可整体向上开启,观察盖设于其正侧面;内框结构位于整体机壳内;所述内框结构包含内框支撑座,内框前盖,涡流导流管,内框支架和滑动模块;内框支撑座位于整个内框结构的底部,内框支架的四面布置了网状钢架,网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管,内框前盖与观察盖的位置对应;所述滑动模块包含导轨座,仪器放置架,滑动涡流支架,移动滑块和滑轨,导轨座上架设有滑轨,移动滑块与滑轨配合,移动滑块在滑轨上移动时,带动滑动涡流管支架移动,仪器放置架用于放置待清洗的仪器设备,其位于移动滑块的路径上。
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