发明名称 正型光阻组成物及图型形成方法
摘要
申请公布号 TWI507822 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW099121498 申请日期 2010.06.30
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 田中启顺;增永惠一;土门大将;渡边聪
分类号 G03F7/039;C08F277/00;C08F265/04;C08F257/02;C08K5/42;C08K5/18;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种正型光阻组成物,其系至少含有(A)具有以酸不安定基保护之酸性官能基之硷性不溶性或难溶性之树脂,且该酸不安定基在脱离时会成为硷性可溶性之基底树脂,(B)酸发生剂、(C)作为硷性成分之含氮化合物的正型光阻组成物;其特征为该基底树脂系由选自以下述一般式(1)、(2)、(3)、(4)、(6)、(6’)及(9)所示重复单位所构成之聚合物,其系必定含有一般式(1)与1种以上选自下述一般式(2)、(4)及(6)之重复单位,当不含下述一般式(2)所示之重复单位时,必定含有下述一般式(3)所示之重复单位之聚合物,进而,在构成该基底树脂之全部重复单位中,含有下述一般式(1)、(2)及(3)所示重复单位在合计70莫耳%以上者, (式中,X为酸不安定基,R1为氢原子、卤原子、碳数1~10之直链状、分枝状或环状之烷基、不因酸而脱离之碳数1~10之直链状、分枝状或环状之烷氧基、或不因酸而脱离之碳数1~10之直链状、分枝状或环状之醯基,X及 R1亦可选择复数种类者,Y为酸不安定基,R为氢原子或甲基,Y及R亦可选择复数种类者,R2为氢原子、羟基、碳数1~10之直链状、分枝状或环状之烷基、不因酸而脱离之碳数1~10之直链状、分枝状或环状之烷氧基、或不因酸而脱离之碳数1~10之直链状、分枝状或环状之醯基,R2亦可选择复数种类者)。
地址 日本