一种图形化衬底制备方法

摘要

本发明提供了一种图形化衬底制备方法，包括如下步骤：在衬底表面形成光学膜；在光学膜上制备出图形化的掩模层；通过掩模层刻蚀光学膜；光学膜包括交替排布的光密介质层和光疏介质层，单层厚度为后续制作在衬底表面发光器件所发射的光在该介质内传输时波长的四分之一。本发明实现了传统图形化衬底和光学反射镜优势的有机结合，提高器件的内外量子效率。

主权项

一种图形化衬底制备方法，包括如下步骤：在衬底表面形成光学膜；在光学膜上制备出图形化的掩模层；通过掩模层刻蚀光学膜；其特征在于，光学膜包括交替排布的光密介质层和光疏介质层，单层厚度为后续制作在衬底表面发光器件所发射的光在该介质内传输时波长的四分之一，光疏介质层的材料选自于氧化硅、氮氧化硅、氮化硅和氧化镁中的多种的组合； 在形成光学膜之前，包括在衬底表面形成介质膜的步骤，并进一步在介质膜表面形成光学膜，且所述刻蚀步骤进一步刻蚀介质膜。