发明名称 一种β-SiC中杂质元素的定量分析方法
摘要 本发明涉及一种β-SiC中杂质元素的定量分析方法,包括:1)配制杂质元素系列标准溶液;2)采用电感耦合等离子体原子发射光谱仪测定所述系列标准溶液的发射光谱强度,绘制各待测元素浓度和发射光谱强度的校准曲线;3)将β-SiC样品在高压密闭环境下采用氢氟酸、硝酸消解形成待测溶液;4)重复步骤3)但不添加β-SiC样品形成空白溶液;5)采用电感耦合等离子体原子发射光谱仪,分别测定步骤3)和4)制备待测溶液和空白溶液的发射光谱强度,结合步骤2)制备的校准曲线,得到被测元素的浓度,计算出β-SiC样品中被测元素的质量百分含量。本方法具有操作简便、快速、准确、灵敏及重复性好等优点。
申请公布号 CN105004711A 申请公布日期 2015.10.28
申请号 CN201510411287.1 申请日期 2015.07.14
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 屈海云;陈奕睿;董疆丽;朱燕
分类号 G01N21/71(2006.01)I 主分类号 G01N21/71(2006.01)I
代理机构 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人 曹芳玲;郑优丽
主权项 一种β‑SiC中杂质元素的定量分析方法,其特征在于,包括:1)配制杂质元素系列标准溶液;2)采用电感耦合等离子体原子发射光谱仪测定所述系列标准溶液的发射光谱强度,绘制各待测元素浓度和发射光谱强度的校准曲线;3)将β‑SiC样品在高压密闭环境下采用氢氟酸、硝酸消解形成待测溶液;4)重复步骤3)但不添加β‑SiC样品形成空白溶液;5)采用电感耦合等离子体原子发射光谱仪,分别测定步骤3)和4)制备待测溶液和空白溶液的发射光谱强度,结合步骤2)制备的校准曲线,得到被测元素的浓度,计算出β‑SiC样品中被测元素的质量百分含量。
地址 200050 上海市长宁区定西路1295号