| 发明名称 | 倾斜角沉积蒸发系统 | ||
| 摘要 | 1、本外观设计产品的名称：倾斜角沉积蒸发系统。2、本外观设计产品用途：作为蒸发镀膜的设备，用于薄膜的生产，尤其适合在基片上制备具有倾斜角纳米结构的薄膜。3、本外观设计产品的设计要点在于外观设计产品的形状。4、最能表明设计要点的图片为立体图。 | ||
| 申请公布号 | CN303423926S | 申请公布日期 | 2015.10.28 |
| 申请号 | CN201530206013.X | 申请日期 | 2015.06.19 |
| 申请人 | 杭州士兰集成电路有限公司 | 发明人 | 乐仲;孙福河;闻永祥;曹永辉 |
| 分类号 | 15-99(10) | 主分类号 | 15-99(10) |
| 代理机构 | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人 | 柳兴坤;蔡纯 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区10号大街（东）308号 | ||