| 发明名称 | 屏障层合物以及具有其的器件与密封袋、气体屏障膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种屏障层合物，其具有无机层和安置于所述无机层的表面上的有机层，其中所述有机层含有由通式(1)表示的硅烷偶联剂。所述屏障层合物即使在并入元件中时仍维持屏障性质和所述有机层与所述无机层之间的粘着力。<img file="DDA0000467947880000011.GIF" wi="804" he="276" /> | ||
| 申请公布号 | CN103764386B | 申请公布日期 | 2015.10.21 |
| 申请号 | CN201280040672.4 | 申请日期 | 2012.08.23 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 岩瀬英二郎;向井厚史;塚原次郎 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I;B65D30/02(2006.01)I;B65D65/40(2006.01)I;H01L31/042(2014.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/02(2006.01)I;H05B33/04(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 一种屏障层合物，其包括无机层和安置于所述无机层的表面上的有机层，其中所述有机层包括由以下通式(1)表示的硅烷偶联剂：通式(1)[化1]<img file="FDA0000700283780000011.GIF" wi="567" he="273" />通式(1)中，R<sub>1</sub>到R<sub>6</sub>中的每一个表示经取代或未经取代的烷基或芳基，其条件是R<sub>1</sub>到R<sub>6</sub>当中的至少一个为包括自由基可聚合碳‑碳双键的取代基。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||