一种用于等离子体处理装置的可调节约束环

主权项

一种应用于等离子体处理装置的可调节等离子约束环，其中所述等离子处理装置包括等离子制程区域和排气区域，所述等离子约束环位于所述等离子处理装置的等离子制程区域和排气区域之间，具有多个气体通道使来自制程区域的气体流过所述等离子约束环进入排气区域时被中和，其中所述约束环的下方或上方还设置有至少一个挡板，所述挡板与所述约束环在垂直方向上至少部分重叠；其中所述挡板设置于所述约束环下方的安装点，所述安装点对应于所述约束环上方的等离子体浓度小于所述约束环上方其他部分达到大于10%的区域。