| 摘要 |
Устройство очистки полупроводниковых структур ультрафиолетом включает ультрафиолетовую лампу, расположенную на расстоянии от держателя, закрепленного на оси и соединенного с мотором, обеспечивающим вращения держателя для равномерного облучения детали, штатив, соединяющий лампу и держатель, и обеспечивающий регулировку положения лампы по высоте для задания расстояния между лампой и облучаемой деталью 1-10 мм, при этом держатель соединен с вытяжной вентиляцией, обеспечивающей откачку микрозагрязнений и излишков озона, образующегося под действием ультрафиолета. |
