| 发明名称 |
曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法;EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
| 摘要 |
本发明之曝光装置，具备对涵盖除了紧临投影光学系(PL)下方区域外之晶圆载台(WST1)移动范围之标尺板(21)，使用晶圆载台(WST1)上搭载之四个读头(601~604)照射测量光束据以测量晶圆载台(WST1)之位置资讯之编码器系统。此处，读头(601~604)之配置间隔(A、B)系设定为分别大于标尺板(21)之开口之宽度(ai、bi)。如此，视晶圆载台之位置从四个读头中切换使用与标尺板对向之三个读头，即能测量晶圆载台之位置资讯。 |
| 申请公布号 |
TW201539155 |
申请公布日期 |
2015.10.16 |
| 申请号 |
TW104123218 |
申请日期 |
2010.08.25 |
| 申请人 |
尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION |
发明人 |
柴崎佑一 SHIBAZAKI, YUICHI |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰林景郁 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
