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发明名称
半导体结构;SEMICONDUCTOR STRUCTURE
摘要
一种半导体结构,包括基材、漂移层、至少一掺杂区、磊晶通道、闸极氧化层、闸极金属以及绝缘层。漂移区位于基材之上,且基材及漂移层具有n型导电型。掺杂区包括p型井、n型掺杂区及p型掺杂区,其中n型掺杂区设置于p型井之内,至少一部分的p形掺杂区设置于p型井之内,且与n型掺杂区相邻。磊晶通道位于漂移层之上,且覆盖至少一部分的n型掺杂区。磊晶通道由至少二层导电型或掺杂浓度不完全相同的磊晶层构成。闸极氧化层位于磊晶通道之上。闸极金属位于闸极氧化层之上。绝缘层位于闸极金属与闸极氧化层之上。
申请公布号
TW201539755
申请公布日期
2015.10.16
申请号
TW103112472
申请日期
2014.04.03
申请人
财团法人工业技术研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人
颜诚廷 YEN, CHENG TYNG;巴克斯 米特柯 BAKOWSKI, MIETEK;洪建中 HUNG, CHIEN CHUNG;瑞雪诺 赛奇 RESHANOV, SERGEY;雪挪 阿多夫 SCHONER, ADOLF;李传英 LEE, CHWAN YING
分类号
H01L29/78(2006.01);H01L29/40(2006.01)
主分类号
H01L29/78(2006.01)
代理机构
代理人
祁明辉林素华涂绮玲
主权项
地址
新竹县竹东镇中兴路4段195号 TW;
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