发明名称 一种集成电路及制作集成电路的方法
摘要 本申请公开了一种集成电路及制作集成电路的方法。所述集成电路包括:功率MOSFET,具有漏极、栅极和源极;JFET,具有漏极、栅极和源极,所述JFET的漏极耦接至所述功率MOSFET的漏极,所述JFET和功率MOSFET共用所述集成电路的衬底上的漂移区;检测引脚,耦接至所述JFET的源极;源极引脚,耦接至所述功率MOSFET的源极;栅极引脚,耦接至所述功率MOSFET的栅极;漏极引脚,耦接至所述功率MOSFET的漏极和所述JFET的漏极。本申请通过简单的制作工艺保证了低电压水平的控制器可接收功率MOSFET的漏极高压。
申请公布号 CN103022035B 申请公布日期 2015.10.14
申请号 CN201310016877.5 申请日期 2013.01.17
申请人 成都芯源系统有限公司 发明人 李铁生
分类号 H01L27/088(2006.01)I;H01L21/8232(2006.01)I 主分类号 H01L27/088(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种集成电路,包括:功率MOSFET,具有漏极、栅极和源极;JFET,具有漏极、栅极和源极,所述JFET的漏极耦接至所述功率MOSFET的漏极,所述JFET和功率MOSFET共用所述集成电路的衬底上的漂移区;检测引脚,耦接至所述JFET的源极;源极引脚,耦接至所述功率MOSFET的源极;栅极引脚,耦接至所述功率MOSFET的栅极;漏极引脚,耦接至所述功率MOSFET的漏极和所述JFET的漏极。
地址 611731 四川省成都市高新西区出口加工区(西区)科新路8号