高强度与高反射率之薄型陶瓷基板的制备方法,申请号TW102138039-传众专利搜索

发明名称	高强度与高反射率之薄型陶瓷基板的制备方法
摘要
申请公布号	TWI503224	申请公布日期	2015.10.11
申请号	TW102138039	申请日期	2013.10.22
申请人	九豪精密陶瓷股份有限公司	发明人	朱智鸿;吴頴昌;锺振辉;吕俊兴
分类号	B32B18/00;C04B38/00;H01L33/60;H01L33/64	主分类号	B32B18/00
代理机构		代理人	郑再钦台北市中山区民生东路3段21号10楼
主权项	一种具有高强度与高反射率之薄型陶瓷基板的制备方法，系以一氧化锆-氧化铝复合生胚作为中间层，在氧化锆-氧化铝复合生胚的上方及下方各设一含碳有机物氧化铝生胚垫材，再于上方含碳有机物氧化铝生胚垫材的上方及下方含碳有机物氧化铝生胚垫材的下方各设一纯氧化铝生胚，整体叠层后再以高于摄氏1500度(℃)的温度烧结，以制得烧结体视密度达4.12g/cm3(相对密度98%以上)之薄型陶瓷基板。
地址	桃园市平镇区平东路1段160号