| 发明名称 |
PROJECTION SYSTEM, MIRROR AND RADIATION SOURCE FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS |
| 摘要 |
<p>리소그래피 장치 내에서 기판의 타겟부 상으로 방사선 빔을 투영하도록 구성된 시스템이 개시된다. 상기 시스템은 거울을 위치시키고 및/또는 거울의 형상을 구성하는 액추에이터(500)(또한, 액추에이터는 거울에 능동 감쇠를 제공함)를 갖는 거울(510), 및 상기 액추에이터(들)의 제어를 위해 액추에이터 제어 신호들을 생성하는 제어기(515a, 515b)를 포함한다. 상기 거울을 위치시키고 및/또는 상기 거울의 형상을 구성할 때 상기 액추에이터(들)의 제어를 위해 제 1 좌표계가 사용되고, 상기 거울에 능동 감쇠를 제공할 때 상기 액추에이터(들)의 제어를 위해 제 2 좌표계가 사용된다.</p> |
| 申请公布号 |
KR20150113112(A) |
申请公布日期 |
2015.10.07 |
| 申请号 |
KR20157023393 |
申请日期 |
2013.12.12 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
VAN DE KERKHOF MARCUS;VAN OOSTEN ANTON;BUTLER HANS;LOOPSTRA ERIK;VAN DER WIJST MARC;ZAAL KOEN |
| 分类号 |
G03F7/20;G02B7/182;G02B26/08;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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