基板处理装置，半导体装置之制造方法及程式

摘要

本发明系即便利用排气缓冲室施行气体排气的情况，仍可对该排气缓冲室内充分且良好地施行清洗处理。;本发明的基板处理装置系具备有：处理空间、气体供应系统、排气缓冲室、气体排气系统、及清洗气体供应管。其中，该处理空间系对基板载置面上所载置基板施行处理。该气体供应系统系从基板载置面的对向侧朝处理空间内供应气体。该排气缓冲室系具有依包围处理空间之侧边外周方式设置的空间，且供应给处理空间内的气体会流入空间内的方式构成。该气体排气系统系将流入排气缓冲室内的气体予以排气。该清洗气体供应管系从连通于构成排气缓冲室的空间，并对排气缓冲室内供应清洗气体。