发明名称 Integrierte Schaltungsanordnung mit Feldeffekttransistor, insbesondere mit Tunnel-Feldeffekttransistor
摘要 <p>Erläutert werden unter anderem Tunnel-Feldeffekttransistoren, die ein im Vergleich zu anderen Transistoren (T2) auf der gleichen integrierten Schaltungsanordnung (10) dickeres Gate-Dielektrikum (GD1) haben. Alternativ oder zusätzlich haben diese Tunnel-Feldeffekttranistoren Gate-Bereiche an voneinander abgewandten Seiten eines Kanalausbildungsbereichs bzw. einer Grenzfläche zwischen den Anschlussbereichen (D1, S1) des Tunnel-Feldeffekttransistors.</p>
申请公布号 DE102005007822(A1) 申请公布日期 2006.08.31
申请号 DE20051007822 申请日期 2005.02.21
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 NIRSCHL, THOMAS;PACHA, CHRISTIAN;SCHULZ, THOMAS;SCHMITT-LANDSIEDEL, DORIS;HOLZ, JUERGEN;SCHRUEFER, KLAUS;KAKOSCHKE, RONALD
分类号 H01L27/115 主分类号 H01L27/115
代理机构 代理人
主权项
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