发明名称 |
Integrierte Schaltungsanordnung mit Feldeffekttransistor, insbesondere mit Tunnel-Feldeffekttransistor |
摘要 |
<p>Erläutert werden unter anderem Tunnel-Feldeffekttransistoren, die ein im Vergleich zu anderen Transistoren (T2) auf der gleichen integrierten Schaltungsanordnung (10) dickeres Gate-Dielektrikum (GD1) haben. Alternativ oder zusätzlich haben diese Tunnel-Feldeffekttranistoren Gate-Bereiche an voneinander abgewandten Seiten eines Kanalausbildungsbereichs bzw. einer Grenzfläche zwischen den Anschlussbereichen (D1, S1) des Tunnel-Feldeffekttransistors.</p> |
申请公布号 |
DE102005007822(A1) |
申请公布日期 |
2006.08.31 |
申请号 |
DE20051007822 |
申请日期 |
2005.02.21 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
NIRSCHL, THOMAS;PACHA, CHRISTIAN;SCHULZ, THOMAS;SCHMITT-LANDSIEDEL, DORIS;HOLZ, JUERGEN;SCHRUEFER, KLAUS;KAKOSCHKE, RONALD |
分类号 |
H01L27/115 |
主分类号 |
H01L27/115 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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