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发明名称 Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben
摘要
申请公布号 DE10392870(T5) 申请公布日期 2005.08.04
申请号 DE20031092870T 申请日期 2003.06.26
申请人 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY, TOKIO/TOKYO 发明人 FUKUDA, KENJI;SENZAKI, JUNJI
分类号 H01L21/04;H01L27/092;(IPC1-7):H01L21/316;H01L21/822;H01L27/04;H01L29/78 主分类号 H01L21/04
代理机构 代理人
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