发明名称 被取代2,3,4,9–四氢–1H–Ⅲ唑–1–乙酸
摘要
申请公布号 TW098287 申请公布日期 1988.04.16
申请号 TW075101598 申请日期 1986.04.10
申请人 家庭产品股份有限公司 发明人 多明尼克木比里欧;克利丝汀多弗亚历山大德曼森
分类号 A61K31/40;C07D209/58 主分类号 A61K31/40
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.化合物Ⅰ及其药理许可盐: 式中R1,R2,R3,R4,R5及R6 系氢或低级烷基,或R5及R6可一起 形成 -CH=CH-CH=CH- R8及R10各自独立,系氢,低级烷 基或卤;R9系氢或低级烷基;m系 2至3及n系2至4。2.化合物Ⅱ及其药理许可盐: 式中R1,R2,R3,R4,R5及R6 各自独立,系氢或C1-6低级烷基, 或R5及R6一起系 -CH=CH-CH=CH- R8及R10各自独立,系氢,C1-6低 级烷基或卤;R9系氢或C1-6低级烷 基,m系2至3;n系2至4。3.化合物Ⅲ及其药理许可盐: 式中R4,R5及R6均为氢或R5及 R6一起系-CH=CH-CH=CH-; R8及R10各自独立,系氢,甲基, 乙基或氯。4.根据申请专利范围第3.项之化合物, 包括1,8-二乙基-2,3,4, 9-四氢-4-(2-丙烯)-1H -唑-1-乙酸。5.根据申请专利范围第4.项之化合物, 包含顺-1,8-二乙基-2,3, 4,9-四氢-4-(2-丙烯)- 1H- 唑-1-乙酸。6.根据申请专利范围第5.项之化合 物, 包含(1S-顺式)-1,8-二乙 基-2,3,4,9-四氢-4-( 2-丙烯)-1H- 唑-1-乙酸7.根据申请专利范围第3.项之 化合物, 包含1-乙基-2,3,4,9-四 氢-8-甲基-4-(2-丙烯)- 1H- 唑-1-乙酸。8.根据申请专利范围第7.项之化合 物, 包含顺式-1-乙基-2,3,4, 9-四氢-8-甲基-4-(2-丙 烯-)-1H- 唑-1-乙酸。9.根据申请专利范围第3.项之 化合物, 包含7-氮-1-乙基-2,3,4 ,9-四氢-8-甲基-4-(2- 丙烯)-1H- 唑-1-乙酸。10.根据申请专利范围第9.项 之化合物, 包含顺式-7-氯-1-乙基-2, 3,4,9-四氢-8-甲基-4- (2-丙烯)-1H- 唑-1-乙 酸。11.根据申请专利范围第3.项之化合物, 包含7,8-二氯-1-乙基-2, 3,4,9-四氢-4-(2-丙烯 )-1H- 唑-1-乙酸。12.根据申请专利范围第11.项之化 合物, 包含顺式-7,8-二氯-1-乙基 -2,3,4,9-四氢-4-(2 -丙烯)-1H- 唑-1-乙酸。13.根据申请专利范围第3.项 之化合物, 包含1-乙基-2,3,4,9-四 氢-4(2-丙烯)-1H- 唑- 1-乙酸。14.根据申请专利范围第13.项之化合物, 包含顺式-1-乙基-2,3,4, 9-四氢-4-(2-丙烯)-1H - 唑-1-乙酸。15.根据申请专利范围第3.项之化合物 , 包含1,8-二乙基-2,3,4, 9-四氢-4-(苯甲基)-1H- 唑-1-乙酸。16.化合物(Ⅰ)之制法: 式中R1,R2,R3,R4,R5及R。6 系氢或低级烷基,或R5及R6一起形 成 R8及R10各自系氢,低级烷基或卤 ;R9系氢或低级烷基;m系2至3 及n系2至4;其包括使化合物( Ⅳ) (式中R1如前述,R7系低级烷基) ,和 (式中R2,R3,R4,R5及R6如 前述),若M系SiMe3或SnBu3, 则在-80℃-+5O℃温度范围,于和 质子呈惰性之溶剂及酸存在下反应, 若M系MgBr,MgCl或MgI则在 -80℃+5O℃温度范围,于醚类溶剂 及合适铜触媒存在下反应,而得化合 物Va,Vb,Vc或Vd; (式中R1,R2,R3,R4,R5, R6及R7如前述);接着使化合物 (Ⅴ)和化合物(Ⅵ)于0℃-溶剂 回流点之温度,在质子溶剂或对质子 呈惰性之溶剂下,或于0℃-150℃ 温度及缺乏溶剂下反应: (式中R8及R10各自系氢,低级烷 基或卤;R9系氢或低级烷基),而 得对应之 (Ⅶ): (式中R1,R2 ,R3,R4,R5, R6,R7,R8,R9及R10 如前述) ,将此 在酸性媒介(以代替第一溶 剂)中处理或添加一酸性媒介至第一 溶剂中,而得到化合物(Ⅰ)之酯; 另在硷存在下,于有或无水之有机溶 剂中,或单独水中,或在酸存在下, 于有或无有机共溶剂之水中,水解此 酯而得到化合物(Ⅰ)。17.根据申请专利范围第16. 项之制法,其 中使化合物Ⅳ (式中R1至R7如第16.项所述,M系 SiMe3 或SnBu3 )在四氯化钛存在 下于-100℃-50℃温度范围及和质 子呈惰性溶剂中进行。18.一种化合物 式中R1,R2,R3,R4,R5及R6 系氢或低级烷基,或R5及R6一起形 成 式中R7系低级烷基 R8及R10各自系氢,低级烷基 或卤;R9系氢或低级烷基;m系2 至3及n系2至4。19.药剂组成物,其中包含第1.项所定 义 之化合物(Ⅰ)或其药理许可盐及药 理许可携体。20.治疗哺乳动物发炎或疼痛之组成 物, 系包括 有效量的第1.项所定义之化合物 (Ⅰ)或其药理许可盐。21.依申请专利范围第3.项所 指定之化合 物1-乙基-2,3,4,9-四氢 -4-(苯甲基)-1H- 唑-1 -醋酸。
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