发明名称 二烷基(N–氰醯亚胺)碳酸酯之制法
摘要 本发明系关于一种(N-氰醯亚胺)碳酸二烷酯之制法,系在受酸剂存在下,于非水液介质中,使醇和卤化氰依化学计量反应,然后在三烷胺或催化量三烷胺和无机硷之存在下,使所得醯亚胺碳酸二烷酯和卤化氰反应得之。
申请公布号 TW206207 申请公布日期 1993.05.21
申请号 TW081104370 申请日期 1992.06.03
申请人 诺瓦帝士公司 发明人 米契尔A.欧利威;华德H.欧利威
分类号 C07C269/04 主分类号 C07C269/04
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒一种如式(I)所示之未被取代或被取代之(N─氰醯亚胺)碳酸二烷酯之制法,式中R1及R2相同,系未被取代或任意被C1─2烷氧基,苯基或C2─4环烷基所取代之C1─2烷基;或R1及R2系形成任意被取代之5或6员环之烷链一部分,该环可稠合成苯并环系;其包括使卤化氰和未被取代或被取代之醯亚胺碳酸二烷酯于三─C1─4烷胺或催化量三─C1─C5烷胺和硷金属碳酸盐存在下,于非水液溶剂中反应而得;该非水液溶剂系选自开链或环形醚;C2─酮,1至6个卤原子取代之C1─4烃,苯,被1或2个卤原子或C1─4烷基取代之苯基,或其混合液。2﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中R1及R2相同,系甲基,乙基,丙基或异丙基。3﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中卤化氰系氯化氰或溴化氰。4﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中三─C1─C4烷胺系三甲胺或三乙胺。5根据申请专利范围第1项之制法,其中除有硷金属碳酸盐外,当使用1至24%莫尔的三烷胺。6﹒根据申请专利范围第5项之制法,其中采用2至4%莫耳的三乙胺或二甲胺,而硷金属碳酸盐系碳酸钠或碳酸钾。7﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中溶剂为第三丁基甲醚,四氢喃,丙酮,或二氯甲烷。8﹒根据申请专利范围第1项之制法,其中温度范围为─20至40℃9﹒根据申请专利范围第8项之制法,其中温度范围第─10至10℃。10﹒根据申请专利范围第1项之制法,包含在醯亚胺碳酸二烷酯和硷之溶液中加入卤化氰;在醯亚胺碳酸二烷酯和卤化氰溶液中加入硷,或在卤化氰溶液中同时加入醯亚胺二烷酯和。11﹒根据申请专利范围第10项之制法,系在醯亚胺碳酸二烷酯和硷的溶液中加入氯化氰。12﹒一种如式(Ⅱ)所示之未被取代或被取代之醯亚胺碳酸二烷酯之制法:式中R1及R2相同,系末被取代或任意被C1─3烷氧苯基或C3─6环烷基取代之C1─3烷基;或R1及R2为形成任意被取代之5至6员环之烷链一部分,该环可和苯稠合;其包括在受酸剂存在下,于非水液溶剂中使醇和卤化氰依化学计量比(2:1)反应;该非水液溶剂系选自醚,卤烃,卤化烃或芳烃;该受酸剂为硷金属氢氧化物或硷金属烷氧化物,该烷基部分对应着所欲之醯亚胺碳酸二烷酯。13﹒根据申请专利范围第12项之制法,其中R1及R2相同,系甲基,乙基,丙基或异丙基。﹒14﹒根据申请专利范围第12项之制法,其中卤化氰系氯化氰或溴化氰。15﹒根据申请专利范围第12项之制法,其中受酸剂为氢氧化钠或氢氧化钾。16﹒根据申请专利范围第12项之制法,其中溶剂为第三丁基甲醚,四氢喃,二氯甲烷或甲苯。17﹒根据申请专利范围第12项之制法,其中反应温度为─20至20℃。18﹒根据申请专利范围第7项之制法,其中反应温度为─10至5℃。19﹒根据申请专利范围第1项之制法,包含使1当量的氢氧化纳及1﹒5当量的碳酸钠悬浮于第三丁基甲醚中,加入两当量的醇,冷却至约O℃,加入氯化氰历约4小时,同时维持反应温度于0─5℃;在相同的温度范围保持反应混合物,直到实质上完全形成醯亚胺碳酸二烷酯,加入2─4%莫耳三乙胺,1莫耳当量水,在0─5℃之温度内加入第二当量的氯化氰历2─4小时,搅卷直到反应实质上完全,过滤混合物以移除盐,然后蒸发溶剂得粗制之(N─氰醯亚胺)碳酸二烷酯。20﹒根据申请专利范围第19项之制法,其中醇为甲醇,乙醇,正丙醇或异丙醇。21﹒根据申请专利范围第19项之制法,其中三烷胺为三甲胺。
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