| 发明名称 | 曝光机载片台的清洁方法及系统 | ||
| 摘要 | 一种曝光机载片台表面的清洁方法，包括：获得载片台表面微粒缺陷的位置信息，根据所述位置信息，移动所述载片台，使得所述微粒缺陷位于气体喷口和排气口下方；通过所述气体喷口向所述载片台表面喷出气体，并通过所述排气口将所述气体排出。一种曝光机载片台表面清洁系统，包括：定位装置，具有气体喷口的喷气管；具有排气口的排气管；用于控制所述喷气管喷气和排气管排气的控制装置；本发明曝光机载片台表面清洁系统及方法可节省清洁时间，减小对曝光机载片台下面基底的磨损，并提高曝光机的利用率。 | ||
| 申请公布号 | CN100517077C | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200610118835.2 | 申请日期 | 2006.11.28 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 黄良志 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;B23Q1/00(2006.01)I;B08B5/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 1、一种曝光机载片台表面的清洁方法，包括：获得载片台表面微粒缺陷的位置信息，根据所述位置信息，移动所述载片台，使得所述微粒缺陷位于气体喷口和排气口下方；通过所述气体喷口向所述载片台表面喷出气体，并通过所述排气口将所述气体排出。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 | ||